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第156章 士气爆棚(1 / 2)

<h1>第156章 士气爆棚</h1>

黑洞光刻机公司。

蒲伟才需要卫明帮忙加工的零件,主要跟光学镜头相关。

尤其是光学镜头表面的那层反光膜材料,要求纯度达到8个九以上。

但国内相关的材料公司,只能做到4个九的纯度,还差四个量级。

为了提高反光效率,卫明只能利用小黑吸收杂质,提纯材料,使其纯度无限接近100%。

这本是慢工出细活,一个一个的消除杂质分子,一天也提纯不了多少。

后来科学家想到了一个巧妙的办法,那就是把反光膜材料,溶于某种特殊有机溶液中,而大部分杂质不能溶解,于是就把杂质析了出来,再加热特殊有机溶液,析出纯度更高的反光膜材料。

如此反复操作几次,反光膜材料的纯度,能提高11个九以上,要比国外材料还高出三个量级——这也是暴龙euv的能量利用效率,为什么能高出三倍还多的原因。

不过特殊有机溶液经过多次的使用之后,其本身纯度会有所下降,进而影响反光膜材料的纯度,必须对特殊有机溶液进行提纯操作。

这就需要制作一种特殊的分子筛,孔径极小,只允许有机溶液分子通过,其他分子一个都通过不了,纯度甚至能达到理论层面的100%。

所以要想解决掉反光膜问题,卫明得制作一批有机溶液分子筛,利用小黑打下一个个的小孔。

由于分子筛小孔的直径刚好在1纳米左右,以前卫明需要精准操控,一天顶多打下100亿孔。

但现在视界的范围刚好为1纳米,只要关闭引力半径,再闭上眼疯狂的打孔即可,短短十分钟就打下了1万亿个孔。

效率提升了万倍不止。

仅仅两个小时,他就制造出了足够使用的分子筛。

高精尖领域做的很多事情其实就是如此。

需要很多接近100%纯度的化学材料。

需要接近0误差的零件。

需要表面无限接近某个数学公式的镜片曲率变化规律。

甚至冷却光刻机所用的水,也必须是没有任何杂质的100%纯水,让光刻机的冷却性能,保持线性稳定,不受杂质影响。

以及某些子系统的工作环境,最好是没有一个空气分子存在的绝对真空……正好,能够吞噬一切的小黑,可以创造出最接近真空的环境。

光源系统要用到的金属锡滴,也得保证它的纯度是100%,这样就可以减少杂光的产生。

利用真空容器离心法,卫明帮忙弄到了100公斤的高纯度锡……这足够满足二十台光刻机的需求。

忙活了一整天。

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